| 項目 | 値 |
| ID | 50 |
| 要約 | タンタル・ニオブアノード酸化皮膜の表面欠陥および修復について⇒#50@講演; |
| 題目 | タンタル・ニオブアノード酸化皮膜の表面欠陥および修復について |
| 会議名 | ㈱技術情報協会 セミナー |
| 開催場所 | 東京五反田 |
| 開催日時 | 2006/03/30～2006/03/30 |
| 管理者 | 立花 和宏 |
| シラバス | |
| ＰＭＥ形式 | 立花 和宏,タンタル・ニオブアノード酸化皮膜の表面欠陥および修復について,㈱技術情報協会 セミナー,東京五反田, ,2006/03/30 |
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| 説明 | 引用 |
（１２：５０～１４：２０）
■第２部：「タンタル・ニオブアノード酸化皮膜の表面欠陥および修復について」
山形大学 工学部 物質化学工学科 助教授 立花 和宏 先生
【ご略歴】：
・1987.4 ～ 1991.3 大日本印刷株式会社
・1992.1 ～ 2003.9 山形大学助手工学部
・2003.10 ～ 山形大学助教授工学部
【ご活躍】：
2003.8 ITE SPECIAL TECHNOLOGY AWARD & APPRECIATION （国際技術交流協会特別技術賞）
●講座の趣旨
固体電解コンデンサの誘電体として使われるタンタル、ニオブのアノード酸化皮膜には表面欠陥が存在する。この表面欠陥にカソード材料が接触すると、固体電解コンデンサの耐電圧が低下したり、漏れ電流が増加したりする。本講演では導電性高分子などの非水系固体カソード材料接触時のアノード酸化皮膜の絶縁特性について学問的な視点から説明を試みる。
●プログラム
１ バルブメタルのアノード酸化
１．１ バルブメタルの高電場機構による皮膜生成機構
１．２ アノダイジングレシオ、絶縁性、耐電圧、漏れ電流
１．３ アノード酸化皮膜の表面欠陥と電流集中
２．カソード材料によるアノード酸化皮膜の表面欠陥の顕在化
２．１ 非水溶液環境下におけるアノード酸化皮膜
２．２ 炭素材料接触によるアノード酸化皮膜の漏れ電流
２．３ アノード酸化皮膜の化成電圧と固体電解コンデンサの耐電圧
３．カソード材料によるアノード酸化皮膜の表面欠陥の修復
３．１ カソード材料としての二酸化マンガンと導電性高分子
３．２ アノード酸化皮膜の修復とカソード材料の電位
３．３ アノード酸化皮膜の修復と水分
[質疑応答]
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