半導体デバイスと集積回路技術
ｐ-ｎ接合
接合型トランジスタ
電界効果型トランジスタ
集積回路
集積回路とプロセス技術
バイポーラＩＣｎ製造プロセス
ｎＭＯＳ-ＩＣの製造プロセス
エレクトロニクスと電気化学1)
- (1) > エレクトロニクスと電気化学
山下正通、小沢昭弥, 現代の電気化学, 丸善, , (2012).>
出典：
半導体デバイスと集積回路
（山下正通、小沢昭弥. 現代の電気化学. 丸善, . ） 3)
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【関連書籍】
半導体デバイスと集積回路技術
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エレクトロニクスと電気化学1)
山下正通、小沢昭弥, 現代の電気化学, 丸善, , (2012).>
出典：
半導体デバイスと集積回路
（山下正通、小沢昭弥. 現代の電気化学. 丸善, . ） 3)
出典：
半導体のつくり方
（松林光男、渡辺弘. イラスト図解 工場のしくみ. 日本実業出版社, . ） 4)
無機工業化学：窯業・珪酸塩化学工業＠無機工業化学. /amenity/Syllabus/@Lecture.asp?nLectureID=2803. (参照2007-04-01).
無機工業化学：マンガ本がなくなったら―印刷技術と半導体―. /amenity/Syllabus/@Lecture.asp?nLectureID=4112. (参照2014-06-30).
現代の電気化学. 丸善, 2012. .
イラスト図解 工場のしくみ. 日本実業出版社, 2004. .
高純度のものは半導体や太陽電池として使用される。シリコンの製造はケイ砂とコークスを電気炉中で還元し、粗ケイ素とします。そののちトリクロロシランで精密蒸留して還元します。しかしこれらは、多結晶体であるため引き上げ法を用いて単結晶とする。
最新工業化学―持続的社会に向けて―. 講談社サイエンティフィク, 2004. p.18.
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<ul>
<!-- 書評 書評 書評 2.2.1.B. シリコンの製造, p.18 書評 書評 書評 -->
<li>
<a target="_blank" href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=1485"> 2.2.1.B. シリコンの製造, p.18 </a>
<br/> 野村正勝・鈴鹿輝男.
<cite> <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookRequest.asp?nBookRequestID=94"> 最新工業化学―持続的社会に向けて― </a> </cite>.
講談社サイエンティフィク, （ <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=1485"> 参照 2014-6-26 </a> ） .
</li>
<!-- 書評 書評 書評 2.2.1.B. シリコンの製造, p.18 書評 書評 書評 -->
</ul>
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バイポーラＩＣｎ製造プロセス
ｎＭＯＳ-ＩＣの製造プロセス
エレクトロニクスと電気化学1)
- (1) > エレクトロニクスと電気化学
山下正通、小沢昭弥, 現代の電気化学, 丸善, , (2012).>
出典：
半導体デバイスと集積回路
（山下正通、小沢昭弥. 現代の電気化学. 丸善, . ） 3)
出典：
半導体のつくり方
（松林光男、渡辺弘. イラスト図解 工場のしくみ. 日本実業出版社, . ） 4)<%nExtID=1485:szRefType="book":szRefHeadLine="野村正勝・鈴鹿輝男,最新工業化学―持続的社会に向けて―,講談社サイエンティフィク,2.2.1.B. シリコンの製造, p.18(2004)"%>
- (1) 立花 和宏.
無機工業化学：窯業・珪酸塩化学工業＠無機工業化学. /amenity/Syllabus/@Lecture.asp?nLectureID=2803. (参照2007-04-01).- (2) 立花和宏.
無機工業化学：マンガ本がなくなったら―印刷技術と半導体―. /amenity/Syllabus/@Lecture.asp?nLectureID=4112. (参照2014-06-30).- (3) 山下正通、小沢昭弥.
現代の電気化学. 丸善, 2012. .- (4) 松林光男、渡辺弘.
イラスト図解 工場のしくみ. 日本実業出版社, 2004. .
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